Ab initio study of the surface properties and the ideal strength of (100) silicon thin films.
Ab initio study of the surface properties and the ideal strength of (100) silicon thin films.
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从头开始研究 (100) 硅薄膜的表面特性和理想强度。
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J.Li
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Uemno;A.Kushima;T.Kitamura;P.Gumbsch;J.Li
