パルス磁場を用いたMCF平面研磨について
パルス磁場を用いたMCF平面研磨について
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关于利用脉冲磁场进行MCF平面抛光
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西田均
中科院分区：
文献类型：
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作者：
柴田純;酌井徹也;西田均;Y. AKAGAMI;西田均;Y.AKAGAMI;赤上陽一;西田均;赤上陽一;西田均
