T.Kaikoh: "Site preferences of oxygen and boron αtoms during dissociative reaction of HBO_2 molecules onto the Si(111)-7×7 surface"J.Vac.Sci.Technol.. A18. 1469-1472 (2000)
T.Kaikoh: "Site preferences of oxygen and boron αtoms during dissociative reaction of HBO_2 molecules onto the Si(111)-7×7 surface"J.Vac.Sci.Technol.. A18. 1469-1472 (2000)
复制标题
T.Kaikoh：“HBO_2 分子在 Si(111)-7×7 表面上的解离反应过程中氧和硼原子的位点偏好”J.Vac.Sci.Technol.. A18 (2000)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
