The Improved Reliability Performance of Post-Deposition Annealed ALD-SiO<sub>2</sub>
The Improved Reliability Performance of Post-Deposition Annealed ALD-SiO<sub>2</sub>
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沉积后退火ALD-SiO<sub>2</sub>可靠性性能的提高
DOI：
10.4028/p-b76y6c
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Renz A
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Renz A
通过高温合成气体退火改善原子层沉积的 SiO2/4H-SiC 界面
影响因子：
4.1
作者：
Renz A
通讯作者：
Renz A