E.Rokuta: "Ferroelectric Bi_4Ti_3O_<12> Films on Si(100) with An Ultrathin Buffer Layer of Silicon Oxynitride : A Comparative Study Using X-Ray Photoelectron Spectroscopy"Jpn.J.Appl.Phys.. 40(9B). 5564-5568 (2001)
E.Rokuta: "Ferroelectric Bi_4Ti_3O_<12> Films on Si(100) with An Ultrathin Buffer Layer of Silicon Oxynitride : A Comparative Study Using X-Ray Photoelectron Spectroscopy"Jpn.J.Appl.Phys.. 40(9B). 5564-5568 (2001)
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E.Rokuta：“带有超薄氮氧化硅缓冲层的 Si(100) 上的铁电 Bi_4Ti_3O_<12> 薄膜：使用 X 射线光电子能谱的比较研究”Jpn.J.Appl.Phys.. 40(9B)。
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