Y.Suda, M.Ishida, M.Yamashita, and H.Ikeda: "Sub-atomic-layr epitaxy of Si using Si_2H_6" Appl.Surf.Sci.(in press). (1994)
Y.Suda, M.Ishida, M.Yamashita, and H.Ikeda: "Sub-atomic-layr epitaxy of Si using Si_2H_6" Appl.Surf.Sci.(in press). (1994)
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Y.Suda、M.Ishida、M.Yamashita 和 H.Ikeda：“使用 Si_2H_6 进行 Si 的亚原子层外延”Appl.Surf.Sci.（出版中）。
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