局所表面プラズモン共鳴を用いたラマン分光法による歪Si基板の応力評価
局所表面プラズモン共鳴を用いたラマン分光法による歪Si基板の応力評価
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使用局部表面等离子体共振通过拉曼光谱评估应变硅基板的应力
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
橋口裕樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木俊明;高橋可昌;橋口裕樹
