Deposition Characteristics of AlN Thin Film Prepared by the Dual Ion Beam Sputtering System
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DOI：
10.1007/s11664-006-0023-2
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发表时间：
2007-02
影响因子：
2.1
通讯作者：
T. Hu;S. Mao;C. Chao;M. F. Wu;Hsing-Lu Huang;D. Gan
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Hu;S. Mao;C. Chao;M. F. Wu;Hsing-Lu Huang;D. Gan
