Robust ferroelectricity in thick HfO2-based film
Robust ferroelectricity in thick HfO2-based film
复制标题
HfO2 基厚膜具有鲁棒的铁电性
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takao Shimizu;Takanori Mimura;Hiroshi Funakubo
