Crack Tip Stress Fields Revealed by Infrared Photoelasticity in Silicon Crystals

Crack Tip Stress Fields Revealed by Infrared Photoelasticity in Silicon Crystals
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硅晶体中红外光弹性揭示的裂纹尖端应力场

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
Materials Science and Engineering A387-389
影响因子:
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通讯作者:
H.Hayashi
H.Hayashi
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K.Higashida;M.Tanaka;E.Matsunaga;H.Hayashi

文献摘要

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