Si/SiGe/Si(110) 内双晶分布の X 線回折と TEM による評価
Si/SiGe/Si(110) 内双晶分布の X 線回折と TEM による評価
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通过 X 射线衍射和 TEM 评估 Si/SiGe/Si(110) 中的孪晶分布
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山中 淳二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
坂田 千尋;有元 圭介;各川 敦史;原 康祐;山中 淳二
