Ti/Si多層ナノ薄膜の応力誘起化合物生成反応の力学的評価
Ti/Si多層ナノ薄膜の応力誘起化合物生成反応の力学的評価
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Ti/Si 多层纳米薄膜中应力诱导的化合物形成反应的机械评估
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平方寛之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
徳中一将;白石貴裕;嶋田隆広;平方寛之
