A DRY ETCHING METHOD USING DOUBLE-LAYERED ETCHING MASK FOR MODULATING SHAPE OF DEEP-ETCHED QUARTZ SURFACE
A DRY ETCHING METHOD USING DOUBLE-LAYERED ETCHING MASK FOR MODULATING SHAPE OF DEEP-ETCHED QUARTZ SURFACE
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一种利用双层蚀刻掩模调制深蚀刻石英表面形状的干法蚀刻方法
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yousuke Itasaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takashi Abe;Yousuke Itasaka
