T.Matsuura, T.Ohmi, J.Murota, and S.ono: "Perfectly selective directional etching technology by ultraclean ECR plasma" Surface Science Series. No.2, Chapter 9, Realize Inc.247-258 (1993)
T.Matsuura, T.Ohmi, J.Murota, and S.ono: "Perfectly selective directional etching technology by ultraclean ECR plasma" Surface Science Series. No.2, Chapter 9, Realize Inc.247-258 (1993)
复制标题
T.Matsuura、T.Ohmi、J.Murota 和 S.ono：“通过超净 ECR 等离子体实现完美选择性定向蚀刻技术”表面科学系列。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
