HF-CVD法によるダイヤモンド膜の形成におけるSiCN中間層の検討
HF-CVD法によるダイヤモンド膜の形成におけるSiCN中間層の検討
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HF-CVD法金刚石薄膜SiCN中间层的研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
片宗優貴，森寛人，和泉亮
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田渕賢史朗;堀出朋哉;松本要;片宗優貴，森寛人，和泉亮
