水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
复制标题
水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化镍薄膜的制备
DOI：
--
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
木場隆之
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
横岩佑城;阿部良夫;川村みどり;金敬鎬;木場隆之
