Etching Characteristics of Silicon and its Compounds by Gas Plasma
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硅及其化合物的气体等离子体刻蚀特性
DOI：
10.1143/jjap.12.154
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发表时间：
1973
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Enomoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Abe;Y. Sonobe;T. Enomoto
