プロトン照射した鉄カルコゲナイド薄膜の臨界電流特性
プロトン照射した鉄カルコゲナイド薄膜の臨界電流特性
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质子辐照铁硫属化物薄膜的临界电流特性
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
尾崎 壽紀，Qiang Li
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhao Z;Tan SH;Machiyama H;Kawauchi K;Araki K;Hirata H;Sawada Y;尾崎 壽紀，Qiang Li
