M.Higo,K.Nishino,S.Kamata: "Characterization of evaporated silicon film by inelastic electron tunneling spectroscopy." Applied Surface Science. (1991)
M.Higo,K.Nishino,S.Kamata: "Characterization of evaporated silicon film by inelastic electron tunneling spectroscopy." Applied Surface Science. (1991)
复制标题
M.Higo、K.Nishino、S.Kamata:“通过非弹性电子隧道光谱表征蒸发硅膜。”
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
登录
查看更多内容
影响因子:
4.6
作者:
通讯作者:
--
影响因子:
9.8
作者:
Hermassi, M.;Granados, M.;Cortina, J. L.
通讯作者:
Cortina, J. L.
影响因子:
5.8
作者:
J. Zobrist;M. Sima;D. Dogaru;M. Șenilă;Hong Yang;C. Popescu;C. Roman;Abraham Bela;Linda Frei;B. Dold;D. Bălteanu
通讯作者:
D. Bălteanu
DOI:
10.1002/asi.v57:3
发表时间:
2006-02
影响因子:
3.5
作者:
Chaomei Chen
通讯作者:
Chaomei Chen
影响因子:
56.9
作者:
H. H. Wilder
通讯作者:
H. H. Wilder