固体ソースH_2Oプラズマの生成とCaF_2のドライエッチングへの応用
固体ソースH_2Oプラズマの生成とCaF_2のドライエッチングへの応用
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固体源H_2O等离子体的产生及其在CaF_2干法刻蚀中的应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小山二三夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松谷晃宏;大槻秀夫;小山二三夫
