In situ study of DNA Attachment and Hybridization at Silicon Surfaces by IR Absorption Spectroscopy
In situ study of DNA Attachment and Hybridization at Silicon Surfaces by IR Absorption Spectroscopy
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利用红外吸收光谱法对硅表面 DNA 附着和杂交进行原位研究
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ishibashi;他
