Photocatalytic properties of TiO_2 films deposited by gas flow sputtering with very high rate
Photocatalytic properties of TiO_2 films deposited by gas flow sputtering with very high rate
复制标题
气流溅射高速率沉积TiO_2薄膜的光催化性能
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Kubo
