T.Kaikoh, K.Miyake, Y.J.Li, R.Morita, M.Yamashita, H.Shigekawa: "Site preferences of oxygen and boron atoms during dissociative reaction of HBO_2 molecules onto the Si (111)-7×7 surface"J.Vac.Sci.Technol.. A 18 (4). 1469-1472 (2000)
T.Kaikoh, K.Miyake, Y.J.Li, R.Morita, M.Yamashita, H.Shigekawa: "Site preferences of oxygen and boron atoms during dissociative reaction of HBO_2 molecules onto the Si (111)-7×7 surface"J.Vac.Sci.Technol.. A 18 (4). 1469-1472 (2000)
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T.Kaikoh, K.Miyake, Y.J.Li, R.Morita, M.Yamashita, H.Shigekawa：“HBO_2 分子在 Si (111)-7×7 表面上的解离反应过程中氧和硼原子的位点偏好”J .Vac.Sci.Technol..A 18 (4)。
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