Promising Field in New Thermal Spray Technology "Cold Spray"

Promising Field in New Thermal Spray Technology "Cold Spray"
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新型热喷涂技术“冷喷涂”前景广阔

DOI：
10.1299/jsmehs.2011.48.383
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Sakaki
K. Sakaki
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K. Sakaki

文献摘要

被引文献

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1909年にスイスのSchoop氏によって開発された溶射技術 は,厚膜創製プロセスとして各種産業分野における重要な基 盤技術となっている.本技術は,開発以来約百年の節目を過 ぎ,数がmから数mm程度の厚膜形成が可能な表面処理技術 の代表として今日多くの工業分野で活用されている.近年, 特に注目を浴びている溶射法としては,粒子を溶かさず,遊 動エネルギーを主に利用して成股するコールドスプレー1) (Cold Spray,以下CSという)法が挙げられる.このCS按 は,作動ガスの高温化など装鰹の高性能化やアプリケーショ ンの可能性提案から商用レベルでの適用事例などが紹介され るなど益々その助向が賑やかになってきている. CSの基本 特許1), 2)は,米臥欧州で出願されてから今年で15年 (1995年6月30日以前に出願公告されているため,以降は20 年)が経過し,その特許の存続期限が終了する.その意味で も新たな展開の可能性が芽生える時となっている. 本報では,このCS法について概説し,最新助向について 解説する.最新装置,付着メカニズム,あるいは新しいアプ リケーション等に関する仔細は,本特集の次号以降の各解説 を読んでいただければ幸いである.