Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy
Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy
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X射线光电子和X射线吸收光谱表征υ-FeSi_2(111)衬底上同质外延ν-FeSi_2薄膜的表面
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他6名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Esaka;H. Yamamoto;他6名
