Patterning nickel for extreme ultraviolet lithography mask application I. Atomic layer etch processing
Patterning nickel for extreme ultraviolet lithography mask application I. Atomic layer etch processing
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用于极紫外光刻掩模应用的图案化镍一、原子层蚀刻处理
DOI：
10.1116/6.0000190
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发表时间：
2020
影响因子：
2.9
通讯作者：
Chang, Jane P.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sang, Xia;Chen, Ernest;Chang, Jane P.
