高周波マグネトロンスパッタにより成膜した窒化ハフニウム薄膜の結晶配向性の成膜時の基板位置依存性
高周波マグネトロンスパッタにより成膜した窒化ハフニウム薄膜の結晶配向性の成膜時の基板位置依存性
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高频磁控溅射氮化铪薄膜沉积过程中晶体取向与基底位置的关系
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤康仁
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大住知暉;後藤康仁
