GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 ステップ/キンク部における水分子の解離吸着
GaN表面CARE加工の反応メカニズムの第一原理計算による解析 ステップ/キンク部における水分子の解離吸着
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利用第一性原理计算分析GaN表面CARE加工的反应机理台阶/扭结部分水分子的解离和吸附
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山内 和人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
稲垣 耕司;森川 良忠;山内 和人
