K.Sasaki,T.Miyajima,H.Hosoya,S.Furukawa: "Si Grain-Free Highly Canductive Microcrystalliue SiC Films Preparet by Using Organic Silane Gas" Ext.Abs.25th Solid State Devices and Maferials. 107-109 (1993)
K.Sasaki,T.Miyajima,H.Hosoya,S.Furukawa: "Si Grain-Free Highly Canductive Microcrystalliue SiC Films Preparet by Using Organic Silane Gas" Ext.Abs.25th Solid State Devices and Maferials. 107-109 (1993)
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K.Sasaki、T.Miyajima、H.Hosoya、S.Furukawa：“使用有机硅烷气体制备无硅粒高导电微晶 SiC 薄膜”Ext.Abs.25th 固态器件和材料。
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