Theoretical Studies on Fermi Level Pining of Hf-Based High-k Gate Stacks Based on Thermodynamics
Theoretical Studies on Fermi Level Pining of Hf-Based High-k Gate Stacks Based on Thermodynamics
复制标题
基于热力学的Hf基高k栅堆叠费米能级钉扎理论研究
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yamada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Shiraishi;Y. Akasaka;G. Nakamura;M. Kadoshima;H. Watanabe;K. Ohmori;T. Chikyow;K. Yamabe;Y. Nara;Y. Ohji;K. Yamada
