Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas
Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas
复制标题
使用移频探针监测反应处理等离子体中的电子密度
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Sugai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Nakamura;Q.Zhang;H.Sugai
