Fujimoto, K. Okuyama, S. Yamada and M. Adachi: "Effect of Cluster/Particle Deposition on Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of SiO_2 from Four Gaseous Organic Si-containing Precursors and Ozone"J. Appl. Phys.. 85. 4196-4206 (1999)
Fujimoto, K. Okuyama, S. Yamada and M. Adachi: "Effect of Cluster/Particle Deposition on Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of SiO_2 from Four Gaseous Organic Si-containing Precursors and Ozone"J. Appl. Phys.. 85. 4196-4206 (1999)
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Fujimoto、K. Okuyama、S. Yamada 和 M. Adachi：“团簇/颗粒沉积对四种气态有机含硅前体和臭氧中 SiO_2 常压化学气相沉积的影响”J。
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