真空紫外RDSによるSi高指数面上の酸化膜界面構造の評価
真空紫外RDSによるSi高指数面上の酸化膜界面構造の評価
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真空紫外RDS评价Si高折射率表面氧化膜界面结构
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安田哲二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
尾形祥一;大野真也;田中正俊;安田哲二
