Y.Fukano,Y.Sugawara,Y.Yamanishi,T.T.Oasa and S.Morita: "Scanning Force/Tunneling Microxcopy as a Novel Technique for the srudy of Nanometer-Scale Dielectrec Breakdown of Silicon Oxide Layer" Japanese Journal of Applied Physics. 32. 290-293 (192)
Y.Fukano,Y.Sugawara,Y.Yamanishi,T.T.Oasa and S.Morita: "Scanning Force/Tunneling Microxcopy as a Novel Technique for the srudy of Nanometer-Scale Dielectrec Breakdown of Silicon Oxide Layer" Japanese Journal of Applied Physics. 32. 290-293 (192)
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Y.Fukano、Y.Sugara、Y.Yamanishi、T.T.Oasa 和 S.Morita：“扫描力/隧道显微镜作为一种新技术，用于研究氧化硅层的纳米级介电击穿”日本应用物理学杂志。
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