Plasma-induced electronic defects: formation and recovery kinetics in silicon
Plasma-induced electronic defects: formation and recovery kinetics in silicon
复制标题
等离子体引起的电子缺陷：硅中的形成和恢复动力学
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
布村 正太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高垣マユミ;吉村麻奈美;牛島順子;田爪宏二;田島充士;濱口佳和・金子楓;岩佐康弘，杉村知美，田爪宏二;布村 正太他;金子楓・濱口佳和;田島充士;布村 正太
