Magnetic Mesa Structures Fabricated by Reactive Ion Etching with CO/NH_3/Xe Plasma Chemistry for an All-Silicon Quantum Computer
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用于全硅量子计算机的 CO/NH_3/Xe 等离子体化学反应离子刻蚀制造的磁性台面结构
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Esashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D.F.Wang;A.Takahashi;Y.Matsumoto;K.M.Itoh;Y.Yamamoto;T.Ono;M.Esashi
