T.Nishinga, P, Ge, J.Huo and T.Nakamura: "Melt growth of striation and etch pit free GasB under microgravity" J.Crystal Growth. 174. 96-100 (1997)

T.Nishinga, P, Ge, J.Huo and T.Nakamura: "Melt growth of striation and etch pit free GasB under microgravity" J.Crystal Growth. 174. 96-100 (1997)
复制标题

T.Nishinga、P、Ge、J.Huo 和 T.Nakamura:“微重力下条纹和无蚀刻坑 GasB 的熔融生长”J.Crystal Growth。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献