界面活性剤を用いた銅触媒による N-アリール化反応
界面活性剤を用いた銅触媒による N-アリール化反応
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使用表面活性剂的铜催化 N-芳基化反应
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
門川 純
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Inamoto;K.Nozawa;M.Yonemoto;Y.Kondo;門川 純;オニウムアミド塩基を用いた C(sp3)-H 脱プロトン化－修飾反応の開発;稲本 浄文;大川 ひとみ;稲本 浄文;稲本浄文,長谷川千紗,川崎順平,廣谷功,土井隆行,根東義則;稲本 浄文;大川 ひとみ;門川 純
