絶縁体表面帯電の自己補償機構の解明に向けたプラズマ CVD SiO2 膜に対する XPS による表面帯電評価
絶縁体表面帯電の自己補償機構の解明に向けたプラズマ CVD SiO2 膜に対する XPS による表面帯電評価
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通过 XPS 评估等离子体 CVD SiO2 薄膜的表面充电，阐明绝缘体表面充电的自补偿机制
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
廣瀬和之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
牛丸晃太;張江貴大;小林大輔;山本知之;廣瀬和之
