バイアス印加硬X線光電子分光法によるHfO2/SiO2界面ダイポール変調の検出
バイアス印加硬X線光電子分光法によるHfO2/SiO2界面ダイポール変調の検出
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偏置硬X射线光电子能谱检测HfO2/SiO2界面偶极子调制
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮田 典幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野平 博司;和田 励虎;保井 晃;宮田 典幸
