レーザーCVD によるSiC の高速成膜と成膜温度が微細組織に与える影響
レーザーCVD によるSiC の高速成膜と成膜温度が微細組織に与える影響
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激光CVD高速SiC沉积及沉积温度对显微组织的影响
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
橋本龍真;伊藤暁彦;後藤孝
