A particle transport study of vertical evaporation-driven colloidal deposition by the coffee-ring theory
A particle transport study of vertical evaporation-driven colloidal deposition by the coffee-ring theory
复制标题
基于咖啡环理论的垂直蒸发驱动胶体沉积的颗粒输运研究
DOI：
10.1016/j.colsurfa.2008.12.030
复制
发表时间：
2009-04
影响因子：
5.2
通讯作者：
夏明岗
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
夏明岗
本文利用咖啡环理论对垂直蒸发驱动胶体沉积中胶体颗粒向弯月形沉积区的迁移过程进行了理论分析。垂直浸入的基底以低速逐渐暴露，随着悬浮液表面下降，胶体颗粒沉积在基底上。由于接触线处的单一蒸发速率，为了保持恒定的接触角，形成朝向弯月面区域的溶剂流以补充损失的液体。该溶剂流导致颗粒流以在基底上形成膜。
In this paper, we present a theoretical discussion about colloidal particles transporting to a meniscus deposition region for the vertical evaporation-driven colloidal deposition by the coffee-ring theory. The vertically immersed substrate is gradually exposed with a low speed, and colloidal particles are deposited on the substrate as suspension surface descends. Due to a singular evaporation rate at the contact line, to keep a constant contact angle, a solvent flow toward the meniscus region is formed to replenish lost liquid. This solvent flow results in a particle flow to form a film on the substrate.
登录
查看更多内容
DOI：
10.1088/1009-1963/13/11/029
发表时间：
2004-11
期刊：
Chinese Physics
影响因子：
--
作者：
Jia-Jie Diao;Guang-De Chen;F. Qiu;Guo-Jun Yan
通讯作者：
Jia-Jie Diao;Guang-De Chen;F. Qiu;Guo-Jun Yan
影响因子：
2.8
作者：
Antony S. Dimitrov;K. Nagayama
通讯作者：
Antony S. Dimitrov;K. Nagayama
DOI：
10.1201/b12439
发表时间：
2002
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
J. Tóth
通讯作者：
J. Tóth
影响因子：
10.8
作者：
Huang, JX;Tao, AR;Yang, PD
通讯作者：
Yang, PD
影响因子：
3.9
作者：
Brewer, Damien D.;Allen, Joshua;Scriven, L. E.
通讯作者：
Scriven, L. E.