ICP支援スパッタ法により堆積したVO_2薄膜の電界誘起相転移(II)
ICP支援スパッタ法により堆積したVO_2薄膜の電界誘起相転移(II)
复制标题
ICP辅助溅射法沉积VO_2薄膜的电场诱导相变（二）
DOI：
--
复制
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
ヌルルエズリナ,笹川裕介,沖村邦雄
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Ichinohe;K.Kyoh;K.Honma;T.Sawada;K.Suzuki;No.Kimura;Na.Kimura;K.Imai;ヌルルエズリナ,笹川裕介,沖村邦雄
