タルボット効果を用いた広範囲3次元リソグラフィ (第2報) -多重露光を援用した3次元ナノ周期構造の作製-
タルボット効果を用いた広範囲3次元リソグラフィ (第2報) -多重露光を援用した3次元ナノ周期構造の作製-
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使用塔尔博特效应的宽范围 3D 光刻（第二份报告） - 使用多次曝光制造 3D 纳米周期结构 -
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高谷裕浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中西弘樹;水谷康弘;高谷裕浩
