放射光STMによるナノスケール表面分析-金属-半導体界面における元素コントラストの評価-
放射光STMによるナノスケール表面分析-金属-半導体界面における元素コントラストの評価-
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使用同步加速器辐射STM的纳米级表面分析 -评估金属-半导体界面的元素对比-
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
齋藤彰
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akira Saito;Yasumasa Takagi;Koji Takahashi;Hiromasa Hosokawa;Kazuhisa Hanai;Takehiro Tanaka;Megumi Akai-kasaya;Yoshihito Tanaka;Shik Shin;Tetsuya Ishikawa;Yuji Kuwahara;Masakazu Aono;Akira Saito;野津浩史;野津浩史;齋藤彰;齋藤彰;齋藤彰
