微量SiO2添加に伴うHfO2の正方晶構造安定化の起源に関する考察
微量SiO2添加に伴うHfO2の正方晶構造安定化の起源に関する考察
复制标题
少量SiO2的添加使HfO2四方结构稳定的根源探讨
DOI：
--
复制
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
鳥海明
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
富田一行;喜多浩之;鳥海明
