High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching
High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching
复制标题
大气压等离子刻蚀高效无损伤校正石英晶片厚度分布
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masafumi Shibahara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazuya Yamamura;Tetsuya Morikawa;Masaki Ueda;Mikinori Nagano;Nobuyuki Zettsu;Masafumi Shibahara
