Production of High Quality Ti-HAP Functionally Graded Coating Using Well-Controlled Thermal Plasmas(II)-Relationship between Quality of Prepared Films and Plasma Jet Temperature-
Production of High Quality Ti-HAP Functionally Graded Coating Using Well-Controlled Thermal Plasmas(II)-Relationship between Quality of Prepared Films and Plasma Jet Temperature-
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利用良好控制的热等离子体生产高质量Ti-HAP功能梯度涂层(II)-制备薄膜的质量与等离子体射流温度之间的关系-
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takafumi Toda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takao Fuji;Toshinori Suzuki;Y.Yamatan;日高 洋;Takao Fuji and Toshinori Suzuki;M.Kurita;O. Fukumasa;Toshinori Suzuki;日高 洋;Toshinori Suzuki;O. Fukumasa;O.Fukumasa;日高 洋;Toshinori Suzuki;K.Osaki;Toshinori Suzuki;H. Hidaka;T. Toda;Toshinori Suzuki;H. Hidaka;小城 吉寛,高口 博志,莫 宇翔,鈴木 俊法;Y. Yoshihara;小城 吉寛,高口 博志,鈴木 俊法;菊池麻希子;T. Toda;鈴木 俊法;瀧口 愛;K. Akimoto;鈴木 俊法;T. Toda;日高 洋;藤 貴夫,堀尾 琢哉,鈴木 俊法;K. Akimoto;瀧口 愛;鈴木 俊法;穐本和樹;菊池麻希子;鈴木 俊法;堀江憲路;吉原雄一;Toshinori Suzuki;Toshinori Suzuki;K. Horie;戸田剛史;Toshinori Suzuki;Masahiro Kou;M. Kikuchi;Toshinori Suzuki;Takafumi Toda
