ミストCVD法による多元系酸化物薄膜の作製
ミストCVD法による多元系酸化物薄膜の作製
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雾气CVD法制备多元氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤田静雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuri Noma;Jai Hyuk Choi;Sven Stauss;Takaaki Tomai;and Kazuo Terashima;亀山直季;西中浩之;藤田静雄
