Takayoshi Shimura: "X-RAY DIFFRACTION EVIDENCE FOR CRYSTALLINE SiO_2 IN THERMAL OXIDE LAYERS ON Si SUBSTRATES" The Physics and Chemistry of Si-SiO_2 Interface 3. (in press).
Takayoshi Shimura: "X-RAY DIFFRACTION EVIDENCE FOR CRYSTALLINE SiO_2 IN THERMAL OXIDE LAYERS ON Si SUBSTRATES" The Physics and Chemistry of Si-SiO_2 Interface 3. (in press).
复制标题
Takayoshi Shimura：“Si 基板上热氧化层中晶体 SiO_2 的 X 射线衍射证据”Si-SiO_2 界面的物理和化学 3。（出版中）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
